芯达半导体设备发布两款精密定量泵，打破日美多年垄断

      近日，苏创投·国发创投所投企业芯达半导体设备（苏州）有限公司（以下简称：芯达半导体设备）发布两款全国产化自主知识产权光刻胶精密定量泵，打破日美在该项技术的多年垄断，分别为PCV500/3000系列光刻胶涂覆定量泵和前道工艺涂胶精密定量泵SPCV300系列。

      晶圆表面光刻胶涂覆工艺设备为采用光刻机转印生产芯片（集成电路）的关键设备，其中精密光刻胶定量泵为光刻胶涂覆机的关键部件，目前该部件长期为日美两国相关企业垄断。芯达半导体设备（TDSEMI）经过近四年努力，成功推出的两系列产品打破日美两国企业在该项技术的几十年垄断地位，突破又一项我国在芯片领域的卡脖子技术，为国产28纳米以上涂胶显影设备提供稳定零部件供应。

      新推出的PCV500/3000系列光刻胶涂覆定量泵采用气动和电动两种驱动模式，泵体采用PTFE柔性腔室体积线性形变定量技术，具备高洁净度高防腐蚀及表面不沾污性，快速精准补液放液技术提高设备单位面积的生产效率（持续高频供液技术），其中气动控制重复吐出精度0.5%，电动控制重复吐出精度高达0.3%，使用寿命高达30万次以上。

     

        新推出的SPCV300系列前道工艺涂胶精密定量泵采用电控双极往复驱动技术，泵体采用双PTFE柔性腔室定量技术，具备高洁净度高防腐蚀及表面不沾污性，连续补液放液技术提高设备单位面积的生产效率（持续高频供液技术）。泵系统集成光刻胶吐出后多段回吸技术，可有效控制吐出光阻浓度稳定。该泵重复吐出精度高达0.15%，使用寿命高达40万次以上。此款定量泵具有缓压自洁功能，集成系统管道技术，无需额外管道布置，简化供胶系统结构，提升设备稳定性减少故障率。
     涂胶显影设备属于晶圆制造过程中的核心设备之一，特别是属于黄光区核心设备之一，目前多依赖于进口，芯达是国内为数不多的在涂胶显影设备领域能够批量出货的企业之一。此次，核心部件的推出为公司后续更高阶的涂胶显影设备提供了保障。在中美贸易关系紧张的大背景下，芯达有望在国产替代的大背景下做大做强并在半导体前道领域获得突破。